yourCat 曰く、 "朝日新聞の記事によれば、京大でガラスを使ったシリコン立体回路の製造法が開発された。ガラスにフェムト秒レーザーを当てることでシリコン単結晶を任意の位置に作るというシンプルなもので、実用化がしやすそうだ。立体回路は半導体の小型化/省電力化/処理能力向上のひとつの鍵を握っていて、またひとつムーアの法則に強力な助っ人が名乗りをあげた格好だ。"
温度変化で割れませんかね? (スコア:3, おもしろおかしい)
Re:温度変化で割れませんかね? (スコア:1)
(´д`;)
Re:温度変化で割れませんかね? (スコア:0)
最後に一つ、涙滴型のガラスの欠片が手元に残るのですね。
これは……クレアさんの心……
そうするとやっぱ (スコア:1)
(´д`;)
Re:そうするとやっぱ (スコア:1)
#そういえば、ホログラムメモリってブレークスルーが以前あったような気がしたが闇に消えたか?。
今回のような技術を使って Enterprize 号のコンピュータ [m-nomura.com] のような 光ニューロ型のコンピュータ は作れるかも。
Re:そうするとやっぱ (スコア:0)
Re:そうするとやっぱ (スコア:1)
3次元回路でFPLDを作れば自在度は低いが似たことができるかな?
kaokun
パテントはとったんだろうか? (スコア:1)
Re:パテントはとったんだろうか? (スコア:4, 興味深い)
ケチなことをおっしゃいますな。 知識を特定個人・団体の専有権利とせず、 人類の宝として共有すれば良いではないですか。 論文として発表しておけば、 後から同じ技術で特許をとって独占しようなどと不届きな奴が現れても、 公知技術として退けることができるはず。 オープンソースプロジェクトやフリーソフトウェアが尊ばれる この/.において、 独占的権利を主張するよう勧めるというのも不粋な話ではありませぬか。
「多少の独占的権利を与えて経済的利益を得、技術開発を促進する」なんてのは、 ネクタイ絞めたオッサン達のためのお題目です。 技術者および技術オタクとしては、 技術は金儲けの種ではなく、人類全体の発展のために、 ――いやむしろ新たな技術と知識の地平が広がること自体が楽しいがために、 存在するべきものなのです。というかそうあって欲しい……。
実際京大の研究者の皆様が特許を出願しているかどうかは知りませんし、 もちろん、出願および審査請求してはいけないと主張するつもりもないです。 日本語論文では海外の特許審査で公知と認められない場合が有り得るとか、 納得いかん話もあるんで、 それなりに大きな学会で英語論文を発表するとか、 防衛的にUSPを出願しとくとかいうのは、必要な世の中なんでしょうね。(sigh)
釈迦に説法ですが。
企業の研究所などでは、論文発表前に特許出願を強制されたりして、 技術知識の自由な公開が制限される場合がままあります。 特許なんか気にせず、 新たな発見・発明をパブリックな知識として発表できる大学という立場は、 就業規則に縛られた企業研究者からみると、 ある意味羨ましいものがあります。 個人的には、その立場を存分に行使して欲しいですね。
自分のためか、さもなくば人類全体ために働きたいRe:パテントはとったんだろうか? (スコア:1)
利用できるものは利用した方が良いでしょう。
問題は利用の仕方だけど、
うまくいけば、税金や企業の負担が減らせるし、アメリカにバンバン特許取られて身動き取れなくなることも防げるし(もうなってる?)
Re:パテントはとったんだろうか? (スコア:0)
のですが、そのような理想的な社会は社会主義国家で
あっても実現できていません、よって当然特許として
申請してしかるべきものですね、/.であ
Re:パテントはとったんだろうか? (スコア:0)
別に「理想的な社会」でなくたって、 公知技術じゃ特許にゃならんので安心してください。 米国特許庁の審査の杜撰さという問題はともかくとして、 公然と「盗む」ことはできません。 あなたの成果として申請することはできないんですよ。
なので、発明者が自分で独占して儲なくていいと思うなら、 特許以外の方法で公表しても、 他の誰かが「技術を独占して儲る」ことは、やはりできないのです。 特許っ
↑理想はそうだけど・・・ (スコア:3, すばらしい洞察)
Re:↑理想はそうだけど・・・ (スコア:1)
Re:↑理想はそうだけど・・・ (スコア:0)
でも、学術論文の出版にかかる費用も、研究費(もと
GPL的特許 (スコア:1)
Re:GPL的特許 (スコア:1)
周辺技術の特許を取得・行使するだけなら,これに対しては基本特許の権利は行使できないとは思うのだけれど,どうなのでしょう? つまり,基本特許で周辺特許の権利行使をコントロールすることはできないんじゃないかな,ということ.
その昔,ソニーでエサキダイオードの特許を取った時,周辺の特許を取得しなかったためにあまり儲からなかった,という話は聞いたことがあります.
ここらについて,実際のところはどうなんでしょう?
Re:↑理想はそうだけど・・・ (スコア:1)
の投資がしにくいそうです。で、国立大学の教官は特許の出願内容を得るのに
消費した予算のうち、どの程度が国のものであったかによって、自動的に国に
特許の所有権が発生する、と聞いたことがあります。
日本の問題なのか、それとも国立大学の問題なのか、わかりませんが、そのよ
うにして死蔵している特許がいくらも転がっているそうです。この話が死蔵特
許にならないことを祈ります。
既存のLSIと比べて、 (スコア:1)
ガラスの中の3次元空間の中に、P型/N型も作れたとありますけど、
やはり酸化膜も作れないとMOS-FETができないでしょうし、0.18ミクロンみたいな
配線密度はこの方法でできるのでしょうか? (専門の方のコメント希望)
密度を上げるのに時間はかかったとしても、この技術を利用して太陽電池とか、受発光素子、
表示パネル等を作るとおもしろそうですね。
上の層がディスプレイの表示部で、すぐ裏に駆動用ICが構成されいて…なんて応用が
期待できそうな。
Re:既存のLSIと比べて、 (スコア:3, 興味深い)
#MOSは構造やCAD対応が簡単だけど酸化膜とゲートが必須だし、これは技術的に
#深度調整できる加工技術のようだから、バイポーラこそ向いてませんかね?
#個人的には、MOSはそろそろ技術的限界に来てる気がします。
この場合の加工密度は光の集束度とその干渉される部分のサイズによると思うので、
光学系技術が大きく影響するでしょうね、きっと。
問題は結晶生成や加工にかかる速度ではないかなぁ・・・。
#たぶん、フェムト秒レーザーと共焦点顕微鏡を組み合わせたシステムと
#想像しますが、そうなるとスキャン速度はとんでもなく遅いでしょう・・・。
#今の半導体製造現場は、やっぱり写真現像式の方が早く安価で大量生産に向くはず
#ですから、スキャン方式は価格競争力が低そうに思います。
半導体の製造は、工場レベルでいってしまえば、製造速度もけっこう重要なので、
現状の半導体と同等レベルなものは、製造技術として勝負にならない(勝てない)と思います。
あと、元記事ではガラスで光導波路までできたそうですが、シリコンと不純物だけで
光-電気の変換回路ってできましたっけ?
#できるんなら、けっこう有用かも。
#なにせ素子近傍の配線の折れや強度の劣化とかを気にせずに、
#ガラス素子ブロック中を配線できるようですから・・・。
#光ファイバ相当の光導波路を素子と同じブロック中でできるってのは、
#けっこう便利かも、と思います。
---- redbrick
Re:既存のLSIと比べて、 (スコア:2, 興味深い)
酸化膜についてはガラス自体がSiO2ですから, 周りが全て酸化膜ということになりますね.
このアイデアの発想の転換は純シリコンに酸化膜を形成するのではなく, 元が酸化シリコンのガラスの中に還元によってシリコン素子を形成し, これに対する信号および駆動エネルギを光で供給するところに有ると思います.
透明なガラスの中にフェムト秒レーザで回路を構築するのなら, エッチングと化学的な拡散によって回路を構築する既存のプロセスと比較して, 比較的容易に数1000層の回路が出来そうな感じがします.
ただ, ここで問題になりそうなのがシステムとしての設計技法だと思われます. 外部とのインターフェイスは基本的にチップ(キューブ?)の表面にしか有りませんから, そこから奥の方の制御をどうするのかなど, 従来の平面上での設計とは文字通り次元の違う物になるのではないでしょうか? 個人的には最初の実用例としては光ルータ用スイッチとして使われるのではないかと予想しています.
Re:既存のLSIと比べて、 (スコア:1)
>比較的容易に数1000層の回路が出来そう
3次元的にコントロールするためには
やっぱり「焦点距離」みたいなものを使うんでしょうか?
>外部とのインターフェイスは基本的にチップ(キューブ?)の表面にしか有りません
光って使えないんでしょうか?
これを作る工具(^^;;;と同じ原理で、3次元的に狙った場所に光を
「あてる」ことは出来るでしょうから、それを入力手段に使うとか?
あるいはチップ内のある個所から外めがけて光を発射させて出力とするとか?
Re:既存のLSIと比べて、 (スコア:1)
今のLSIは2次元だからパターン作って焼き付けしてエッチング。
というプロセスで量産出来ますけど、
3次元回路を量産する方法について識者の方、ご教授願います。
〜後悔先に立たず・後悔役に立たず・後悔後を絶たず〜